Журнал Компьютерра -721   ::   Компьютерра

ГА

Маски долой



Интересное

цифровое микрозеркальное устройство

продемонстрировала корпорация Nikon на

очередной Международной конференции IEEE

по микроэлектромеханическим системам

(MEMS). Матрица, предназначенная для

новой технологии массового производства

полупроводниковых устройств, бьет все

рекорды скорости.

В Nikon

предполагают, что в фотолитографическом

процессе следующего поколения слой

фоточувствительного материала на

полупроводниковой пластине будет

засвечиваться не через теневую маску, а

непосредственно, отражаясь от

микромеханических зеркал (вроде тех, что

сейчас используются в проекторах). Эта

технология обещает существенно ускорить

и удешевить массовое производство

некоторых полупроводниковых приборов,

остается только создать достаточно

быстрые микромеханические зеркала с

приемлемым разрешением и приемлемой

суммарной площадью.

Новое

устройство усеяно расположенными встык

ромбиками - микрозеркалами из алюминия

площадью по 16 кв. мкм. Каждый ромбик

соединен с гибкой верхней пластиной

миниатюрного конденсатора, которая тоже

изготовлена из тонкого слоя алюминия,

покоящегося между двумя слоями нитрида

кремния. Нижняя пластина этого

конденсатора расположена на подложке на

расстоянии всего 250 нм под верхней.