Страница:
303 из 311
Такую пленку можно накладывать на поверхности деталей для регистрации температурных градиентов в различных направлениях.
19.8.5. Жидкие кристаллы холестерического типа (или их смеси) весьма чувствительны к присутствию паров различных химических веществ. Присутствие крайне малого количества пара может изменить структуру жидкого кристалла. С помощью жидкого кристалла удается установить присутствие в воздухе пара при его концентрации - несколько частей на миллион. Этот способ имеет большую практическую ценность.
19.9. О смачивании.(к 3.3.2.)
19.9.1. Эффект растекания жидкости под окисными пленками металлов. Обычно окисные пленки затрудняют смачивание твердых металлов из-за резкого различия химической природы окисла и металла. Тем не менее во многих системах, несмотря на наличие окисной пленки, жидкие металлы смачивают поверхность твердого металла. Смачивание происходит вследствие проникновение расплава под окисный слой с последующим растеканием в своеобразном капиллярном "зазоре" между окисной пленкой и твердым металлом.
Растекание может может происходить не только под окисными пленками, но и под некоторыми твердыми покрытиями. Эффект зависит от напряжений, сжимающих тело или окисную пленку.
Используется при пайке, сварке и склеивании.
19.9.2.Эффект капилярного "клея" - сцепление частиц, плстин и т.д.,разделенных тонкой прослойкой смачивающей жидкости.
|< Пред. 301 302 303 304 305 След. >|